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    GLA231系列高性能机架式痕量气体分析
    日期:2024-12-19 15:04:27

    空气分子污染(AMC)洁净室的氨气/氟化氢/氯化氢气体的高精度监测

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    先进半导体制造对气体污染物浓度检测严苛,避免影响芯片良品率,氨气属于碱性污染物(MB),会造成保护层显影不良;氟化氢、氯化氢属于酸性污染物(MA),能诱发硼污染 ,需将其浓度严格管控在极低水平,半导体晶圆厂常要求以低于1×10-9的水平测量,未来甚至可能要求低于0.1×10-9 。

    ABB OA-ICOSTM气体分析仪延续Los Gatos Research 的优秀性能和辉煌业绩,采用离轴积分腔输出光谱专利技术,这是第四代腔增强吸收技术。OA-ICOSTM 工业痕量气体分析仪旨在以优异的灵敏度、准确度、精密度和响应时间,满足客户的苛刻要求。它简单易用,可在几分钟内启动,无需现场校准,并且只需极少的预防性维护。

    该系列气体分析仪非常适用于:

    • 空气分子污染(AMC)监测:用于确保半导体晶圆厂(FAB)工艺和人员的健康安全

    • 前开式晶圆传送盒(FOUP)和气相沉积室监测

    与传统的光腔衰荡光谱技术相比,离轴ICOS 技术具有诸多优势,例如:更加可靠耐用、更短测量时间、使用的光腔和反射镜可现场维修。

    所有ABB 仪器均内置计算机(采用Linux 操作系统),该计算机会将每次分析的结果和相关指标存储在内部硬盘上,从而实现无需人员值守的长期运行。相关数据则可以顺利获得模拟、数字(RS232)和Modbus输出方式源源不断地导出。此外,这系列仪器还可以顺利获得互联网远程控制,用户无需身处现场,就可以控制仪器、从仪器中获取数据,以及对仪器进行诊断。该系列仪器还可以保存所测气体的完整光谱,用于故障排除,甚至在过程发生意外变动后,远程优化分析仪。

    功能和优势

    • 支持HF、HCI、NH3 的单气体或多气体配置

    • 给予高精度、准确的H2O 测量结果

    • 给予0-5V 和4-20 mA 模拟输出(标配),以及Modbus TCP(选购)

    • 优化数据处理,在测量亚ppb 级别浓度时,实现优异性能

    • 给予触控数字显示屏,显示气体浓度和分析仪的状态

    • 给予主要密码保护,确保分析仪和数据安全

    • 经过优化的零气性能,以可靠地确认过程事件

    • 给予可定制的校准套件和性能认证文件包

    • 坚固耐用;所需的维护工作很少并且花费较低

    • 可轻松更换过滤器等耗材和正常老化部件(泵隔膜)

    • 服务工程师可现场诊断并更换其他大多数部件

    • 镜面清洁可现场进行,无需返回工厂费时维修

    GLA231-EAA

    项目(气体)

    NH₃

    H₂O

    精度(1σ)

    <1 ppb(1 秒);<0.3 ppb(10 秒);<0.1 ppb(100 秒)

    <50 ppm(1 秒);<20 ppm(10 秒);<10 ppm(100 秒)

    检测限(LOD)

    0.3 ppb(100 秒)

    50 ppm(100 秒)

    准确性 *

    ±0.3 ppb 或读数的 5%,以较高者为准

    >7,000 ppm;=1% FSD

    不同分析仪的结果差异(相对于平均值,10 秒)

    ±0.4 ppb 或读数的 5%,以较高者为准

    ≤1000 ppm;=±10%

    线性测量范围

    高达 10,000 ppb

    高达 30,000 ppm

    样品流量(lpm)

    1.4 - 2.4

    -

    响应时间(T₉₀ - T₁₀)

    10 秒

    -

    GLA231-HFHC & HF

    项目(气体)

    HCl**

    HF

    H₂O

    精度(1σ)

    <0.3 ppb(1 秒);

    <0.1 ppb(10 秒);

    <0.035 ppb(100 秒)

    <0.1 ppb(1 秒);<0.05 ppb(10 秒);

    <0.025 ppb(100 秒)

    <25 ppm(1 秒);

    <10 ppm(10 秒);

    <5 ppm(100 秒)

    检测限(LOD)

    0.1 ppb(100 秒)

    0.075 ppm(100 秒)

    25 ppm(100 秒)

    准确性 *

    ±0.15 ppb 或读数的 5%,以较高者为准

    ±0.1 ppb 或读数的 5%,以较高者为准

    >7,000 ppm;=1% FSD

    不同分析仪的结果差异(相对于平均值,10 秒)

    ±0.2 ppb 或读数的 5%,以较高者为准

    ±0.2 ppb 或读数的 5%,以较高者为准

    ≤1000 ppm;=±10%

    线性测量范围

    高达 2,000 ppb

    高达 2,000 ppb

    高达 30,000 ppm

    样品流量(lpm)

    1.1 - 1.9

    -

    -

    响应时间(T₉₀ - T₁₀)

    25 秒

    25 秒

    -

    * 适用于典型的半导体晶圆厂:在设定的19°C 和23°C 温度范围内,在至少1 小时内,变化范围在±1°C。

    **HCl 测量仅适用于GLA231-HFHC 型号的分析仪。

    一般参数:

    测量速率: 0.01–1 Hz(用户可选)

    采样条件:  工作温度:0°-45°C

    环境湿度:相对湿度<99%,无凝露

    入口压力:分析仪入口处为0-0.35巴(0-5 磅力/平方英寸)

    数据输出:RS232、模拟、以太网、USB、ModbusTM1 TCP/IP

    电源要求:170 W(稳态), 配备ACC-DP3H 外置泵时,最大功率为290 W

    尺寸(高x 宽x 深): 22 × 48 × 61 厘米(8.75 × 19 × 24 英寸)

    重量: 29 公斤(64 磅)

    标志和认证: CE、CSA、IEC、CB 体系

    订购信息:

    OA-ICOS™ GLA231-EAA  NH3 和H2O 高性能机架式分析仪

    OA-ICOS™ GLA231-HF  HF 和H2O 高性能机架式分析仪

    OA-ICOS™ GLA231-HFHC HCl、HF 和H2O 高性能机架式分析仪

    产地:ABB 

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